恒溫恒濕存儲柜適用范圍

高新技術(shù)基礎上發(fā)展的高精尖器件急需恒溫恒濕存儲柜來(lái)存儲，一個(gè)可以恒溫又可恒濕的存儲環(huán)境對高精產(chǎn)品實(shí)在是太重要了。

恒溫恒濕存儲柜技術(shù)是建立在綜合科學(xué)研究基礎上。它是以激光器和先進(jìn)的探測器為基礎、電光學(xué)技術(shù)、電子技術(shù)、微電子技術(shù)、精密機械技術(shù)和計算機技術(shù)等密切結合而形成的一項高技術(shù)。它是以大規模集成電路、大型芯片組件、微型電子器件、元器件和板件電路等組成的多功能系統。這些電子產(chǎn)品滲透到光電材料與元件，光學(xué)儀器，光信息（資訊）產(chǎn)業(yè)，光通訊產(chǎn)業(yè)， 光電顯示，激光器和激光應用，光電附設及電子元件，SMT 表面貼裝，半導體產(chǎn)業(yè)，攝影器材，制藥，化工等行業(yè) 及科學(xué)領(lǐng)域中，而且這些元器件在相對濕度60%RH以上的潮濕空氣里，更容易吸濕。各種配件、元件還沒(méi)有使用就失效，嚴重地影響了裝備的可靠性。

隨著(zhù)設備不斷升級完善，各種新型先進(jìn)的高分子材料、橡膠和塑料制品配件及各種精密光學(xué)鏡面配件不斷得到應用，這些器件、材料所要求貯存濕度范圍雖然不相同，但都是需要在恒溫恒濕的條件下保存。

如：計算機用的各種磁盤(pán)、磁帶、相片、錄音帶和皮革制品要求濕度范圍在40%RH～55%RH；

精密的儀器、集成板件、半導體元器件、印刷電路板要求濕度范圍在30%RH～45%RH；

光學(xué)精密測量鏡頭：晶體、紅外和夜視鏡片所要求的濕度范圍在20%RH～35%RH；

精密電子組件BGA、LCD要求的濕度在15%RH以下。

由于上述配件沒(méi)有合適的貯存環(huán)境，很使這些類(lèi)產(chǎn)品設備生霉、生霧、氧化腐蝕、金屬零件銹蝕、高分子材料變形、老化斷裂、電子器件失效等等嚴重影響了器件壽命。這些器件產(chǎn)品是新技術(shù)裝備的核心部分、價(jià)格昂貴，而因貯存、管理失效，不僅產(chǎn)生經(jīng)濟損失，如果應用在國防軍事方面，甚至給部隊的戰斗力、生存力帶來(lái)不可挽回的軍事?lián)p失。

因此提高電子元器件及各種配件的可靠性、保證裝備的可維性和完好率，根據濕度范圍進(jìn)行分類(lèi)管理，建立一個(gè)恒溫恒濕存儲柜平臺來(lái)滿(mǎn)足各種精密配件和電子器件貯存的濕度環(huán)境要求是當務(wù)之急。